Экспонирующие установки с люминесцентными источниками света

Экспонирующие установки с люминесцентными облучателями имеют небольшую производительность и компактные габаритные размеры. Эти установки применяются в малых и средних по объему производствах полиграфических предприятиях. Установка такого типа состоит из вакуумного стола, на поверхности которого имеется система вакуумных канавок 2.

Фотополимеризующуюся пластину с фотоформой оператор кладет на стол и накрывает сверху полиэтиленовой пленкой. При создании под пленкой вакуума она принимает негатив к фотополимеризующейся пластине и столу. На откидывающейся крышке 3 смонтирована панель люминесцентных УФ-ламп 4. Крышка для облегчения открывания и закрывания оборудования противовесами 5. На пульте управления 6 размещены реле времени для задания продолжительности экспонирования и кнопки включения и выключения вакуум-насоса. Установки просты по конструкции и в обслуживании, но имеют большую продолжительность экспонирования фотополимеризующихся пластин.

Существует также экспонирующие установки, в которых люминесцентные лампы 4 расположены в корпусе 1 под защитным стеклом 2. При этом откидывающаяся крышка 3 содержит антистатический резиновый коврик, обеспечивающий равномерный прижим при создании вакуума на корпусе сверху расположен пульт управления 5. Современные экспонирующие установки имеют несколько независимых программ для регулирования глубины вакуума (двух ступеней) мощности излучения и времени экспонирования.

В экспонирующих устройствах для ФПП в зависимости от формата ЭУ на панели находится порядка 10-20 люминесцентных ламп мощностью 25-60 Вт со спектром излучения в диапазоне X = 360 — 380 нм. В устройствах данного типа вместо стекла используется прижимная пленка, а плотное прилегание фотоформ к ФПП обеспечивается вакуумной системой. В замкнутом пространстве выделяется достаточно большое количество тепла и температура на поверхности ФПП может достигнуть значений превышающей допустимую. Поэтому в ЭУ применяются системы охлаждения с подачей холодного воздуха вентилятором. Очень важно периодически очищать сетчатые барабаны вентилятора, так как в них моет скапливаться пыль. Набитые пылью сетчатые барабаны вентилятора уменьшают воздушный поток внутри полости, что приведет к повышению температуры экспонирующего стола. Перегрев поверхности стола повлечет более быструю засветку пластины, т.е. нарушение режимов экспонирования. Поддержание в чистоте и периодическая замена винилового покровного листа является необходимым условием надежной работы устройства и обеспечением требуемого качества ФПФ.

ЭУ используются как для основного экспонирования фотополимерных пластин, так и для засветки обратной стороны пластины.

Во время основного экспонирования необходимо достигнуть плотного контакта между негативом и пластиной. Этого можно достичь при помощи хорошего вакуума и при использовании матированной пленки. Такие пленки имеют высокую плотность (более 4) и хорошо показывают себя в работе при длительных экспозициях. Всегда необходимо использовать отводные полоски, которые удлиняют каналы вакуума на столе экспонирующего устройства. Между негативом и пластиной надо удалить включения воздуха для обеспечения плотного контакта. Если контакт был неплотный, то на отпечатанном изделии будут пропуски изображения или плохо сформированное изображение.

Безусловно, негатив и пластина должны быть очищены от грязи и линта. Для этого используют статическую щетку, а также очиститель пленки с антистатическим ингредиентом. Только после того, как пластина полностью подготовлена к экспонированию, снимают покровный лист. Преждевременное снятие покровного листа приводит к накоплению на пластине пыли и линта.

Рекомендуется менять люминесцентные лампы через 250-300 часов работы, либо при значительном увеличении времени экспонирования. После замены новые лампы должны быть включены на 10 часов для некоторого снижения их первоначальной световой мощности, которая стабилизируется после 10 часов работы новых ламп.

Оптимальное давление вакуума для изготовления качественных пластин составляет 400 мм ртутного столба. Недостаточный вакуум приводит к плохому контакту негатива с пластиной.

Тест на основное экспонирование позволяет определить оптимальное время экспонирования для работ, которые будут воспроизводиться на печатной машине, и выполняется с использованием тест — негативов. Тест — негатив содержит линию толщиной 130 мкм, 3% растровые точки с разной линиатурой, изолированные точки и реверсивный шрифт (выворотка). Для выполнения теста засвечивают сегменты полоски с 2-х минутными интервалами, например 6 мин, 8 мин, 10 мин и 12 мин. Полоску промывают в обычном режиме и перед осмотром высушивают в течение 30 минут. После этого выбирают время экспонирования на основе способности пластины удерживать прямую линию толщиной 180 мкм и 3% светлые участки без какого-либо выпадания. На недоэкспонированных фотополимерных пластинах линии становятся волнообразными, и происходит потеря мелких точек в светах изображения, которые искажают растровый рисунок и приводят к загрязненной печати. Другим признаком недостаточного экспонирования является чашевидная форма, при которой во время печати воспроизводятся только периферийные участки изображения. Переэкспонирование приводит к заполнению выворотки из-за образования бугристого выступа вокруг участка изображения.

Засветка обратной стороны пластины должна быть стандартизирована с помощью поэтапного теста, который заключается в пошаговом увеличении на несколько секунд времени засветки полоски фотополимера размером 5 х 40 см. Успользование теста на определение времени экспонирования необходимо для получения требуемой толщины основы цоколя. Для определения глубины рельефа необходимо из общей толщины пластины вычесть толщину основы цоколя. Глубина рельефа обычно составляет от 0.76 до 0,92 мм для штриховых работ и от 0,64 до 0,76 мм для растровых работ. Такой поэтапный тест должен выполняться для каждой новой партии пластин для гарантированного получения необходимого рельефа.

Экспонирующее устройство в ряде случаев, помимо секции экспонирования содержит блок сушки и секции дополнительного экспонирования и завершающей обработке.

Всеми операциями управляет центральный процессор. Панель управления с клавиатурой позволяет вводить параметры продолжительности операций предварительного, основного и дополнительного экспонирования, сушки и завершающей обработки. Эти значения могут быть запрограммированы в одном запоминающем устройстве. остаток времени до окончания каждой операции отображается на дисплее.

Экспонирующие устройства для флексографских ФПФ аналогичны ЭУ для типографских ФПФ . Отличаются они тем, что в них используются наряду с источником УФ — излучения зоны А(315 - 380 нм) и источник УФ — излучения зоны — С (200 - 280 нм), размещенных в разных секциях.

Экспонирующие устройства с источником УФ — А излучения может иметь автономное построение, а может являться секцией много операционного процессора для изготовления флексографских печатных форм.